Home サイトマップ お問合せ Nikon   工業顕微鏡 実体顕微鏡 測定機 顕微鏡用デジタルカメラ NEXIV ShuttlePix ZEISS   TEMP12 レーザー干渉計ZLM500/700/800 HEIDENHAIN   リニアエンコーダー（オープンタイプ） リニアエンコーダー（シールドタイプ） 高精度エンコーダ 長さゲージ ロータリーエンコーダ カウンタ 校正 FAQ その他 home >> M-synergy >> Nikon >> NEXIV >> VMZ-Rシリーズ 高機能小型、低価格モデル。最大測定範囲：150×150mm。 ■3モデル　5タイプの光学ヘッドを用意 標準倍率モデル　5段階／15倍のCNCハイスピードズーム 　タイプ1　倍率：0.5〜7.5× 　タイプ2　倍率：1〜15× 　タイプ3　倍率：2〜30× TZモデル（高倍率）　最大120xの超高変倍比 　高倍／低倍それぞれ7.5倍の2対物レンズ光路切替え式 　8段階のズームポジション LUモデル　ニコンが誇るCFI60光学システム 　電動レボルバタイプ/ユニバーサル照明 ■用途 　電子部品、基板、プレス部品、コネクタなど小型部品 　小型高密度基板、小型精密金型、パッケージ（2次元＋高さ）、　MEMS部品 測定原器として最適な超高精度モデル。　最大測定範囲：300×300mm ■2モデル　4タイプの光学ヘッドを用意 標準倍率モデル　5段階／15倍のCNCハイスピードズーム 　タイプ1　倍率：0.5〜7.5× 　タイプ2　倍率：1〜15× 　タイプ3　倍率：2〜30× TZモデル（高倍率）　最大120xの超高変倍比 　高倍／低倍それぞれ7.5倍の2対物レンズ光路切替え式 　8段階のズームポジション ■用途 　測定室マスター機 　金型 　微細パターン用マスク 　MEMS用マスク 大型の基板、液晶用部品などの高精度測定に。最大測定範囲：1000×800mm ■3モデル　5タイプの光学ヘッドを用意 標準倍率モデル　5段階／15倍のCNCハイスピードズーム 　タイプ1　倍率：0.5〜7.5× 　タイプ2　倍率：1〜15× 　タイプ3　倍率：2〜30× TZモデル（高倍率）　最大120xの超高変倍比 　高倍／低倍それぞれ7.5倍の2対物レンズ光路 切替え式 　8段階のズームポジション LUモデル　ニコンが誇るCFI60光学システム 　電動レボルバタイプ/ユニバーサル照明 ■用途 　基板用印刷マスク、マザー基板 　液晶ガラス基板（パターン測定）、有機ELガラス基板（パター 　ン測定）         ページトップに戻る © MIKASA CO., LTD 2005