|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
高解像度光学系の採用による高い測定性能と、広視野表示をはじめとした使いやすさを同時に実現。
画像測定用のVMA-4540Vとタッチプローブ測定も可能なVMA-4540。 |
|
|
XYストロークはワイドな450mm×400mm。大型PCBや大型パネル、長さのある部材の測定や多数の被検物を並べての連続測定にも対応します。Z軸ストロークも200mmと大きく、高さのある樹脂射出成型品の測定も可能です。 |
|
最大で13mm×10mm(0.35×倍率時)の広視野を確保。被検物とステージの平行出しや測定位置のサーチがストレスなく容易に行えます。5段階/10倍の高精度ズーム光学系により、細部の測定も高精度に行えます。
また、iNEXIV専用に設計された高解像力(NA0.11)のアポクロマート対物レンズにより、倍率誤差や色にじみを抑えたシャープでクリアな画像が得られます。 |
倍率および視野(mm) |
光学倍率 |
0.35× |
0.6× |
1× |
1.8× |
3.5× |
総合倍率 |
12.6× |
21.6× |
36× |
64.8× |
126× |
視野(mm) |
13.3×10 |
7.8×5.8 |
4.7×3.5 |
2.6×1.9 |
1.33×1 |
|
|
総合倍率は、24型TFTモニタをWUXGA(1920×1200画素)モードで設定したときのモニタ上での倍率です。 |
|
|
高速で高い繰り返し精度を誇る画像AFにより、被検物表面や輪郭エッジのピント合わせのほか、被検物上への基準面設定や高さ測定・深さ測定が行えます。 |
|
|
73.5mmの長い作動距離を確保。大きな・・・・・・・・・・・・・・・・発揮します。 |
|
|
*レーザーAF使用時の対物レンズ作動距離は63mmです。 |
|
|
|
同軸落射照明、透過照明、8分割リング照明(入射角18°)は、光源に長寿命、低消費電力の高輝度白色LEDを採用。被検物の形状に応じた照明の選択や、光量・照射方向の調整により、見えにくい微妙なエッジもシャープに捉えることが可能です。 |
|